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| ◇ナ◇
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| ◇ニ◇
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| 【ニードルバルブ
(needle valve) 】 バルブ軸の先端が針状になって,円錐状のバルブシートにはまるようになっている絞りバルブ。針の位置によって流量を微細に調節できる。 ナ行TOPに戻る |
| 【入射速度
(impingement rate) 】
表面の単位面積当たりに単位時間に入射する物質の量。 ナ行TOPに戻る |
| 【入射頻度
(impingement rate) 】
表面の単位面積当たりに単位時間に入射する分子の数。 (量記号:ν,Γ,単位記号:m-2・s-1) ナ行TOPに戻る |
| ◇ヌ◇
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| ◇ネ◇
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| 【熱遷移,サーマルトランスピレーション
(thermal transpiration) 】
温度が異なる二つの容器が導管で結ばれている場合に,分子流領域において圧力差を生じる現象。 ナ行TOPに戻る |
| 【熱陰極電離真空計
(hot cathode ionization gauge) 】
熱陰極から放出された電子によって気体を電離する電離真空計。 ナ行TOPに戻る |
| 【熱陰極マグネト口ン真空計
(hot cathode magnetron gauge) 】
単純な円筒状マグネトロン構造をもづた超高真空用の熱陰極電離真空計。 ナ行TOPに戻る |
| 【熱C
V D (thermal CVD) 】
熱エネルギーによって化学反応を行い薄膜生成を行う。常圧と減圧法があり,基板加熱法には,高周波加熱法と抵抗加熱法が用いられ,おもに基板を加熱するコールドウオール型と反応容器を加熱するホットウオール型に大別でき電気的・化学的に安定な薄膜が得られ,各種の絶縁膜,半導体膜,金属膜が作成できる。また基板材質の差によりある種の金属(Al,W,Mo)等は選択的に成長することができる選択熱CVDも開発されている。 ナ行TOPに戻る |
| 【熱適応係数
(accommodation coefficient) 】
入射粒子と表面との間の熱エネルギーの授受の程度を表す係数。実際に授受される平均エネルギーと,入射粒子が表面と熱平衡に達して表面から空間に戻ると仮定した場合に授受される平均エネルギーとの比。 (量記号:α) ナ行TOPに戻る |
| 【熱電対真空計
(thermocouple gauge) 】
加熱されている素子の温度を熱電対によって測定する熱伝導真空計。 ナ行TOPに戻る |
| 【熱伝導真空計
(thermal conductivity gauge) 】
低圧気体の熱伝導が気体の圧力に依存することを利用し,素子の温度変化を計測して圧力を求める真空計。 ナ行TOPに戻る |
| 【粘性真空計
(viscosity gauge) 】
低圧気体の粘性力が気体の圧力に依存することを利用して,物体の表面に働く粘性力の変化を計測して圧力を求める真空計。 ナ行TOPに戻る |
| 【粘
性 流 (viscous flow) 】
気体分子の平均自由行程が導管断面の寸法よりも十分に小さい場合に起こる導管内の気体の流れ。備考 流れは気体の粘性に依存し,層流または乱流となる。 ナ行TOPに戻る |
| ◇ノ◇
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| 【ノ
ズ ル (nozzle) 】 蒸気噴射真空ポンプにおいて作動流体の流れをそろえて,蒸気噴流を形成することによって排気作用を得るための部品。 ナ行TOPに戻る |
| 【ノズルアセンブリ
(nozzle assembly) 】
蒸気噴射真空ポンプにおいて,ノズルと蒸気導管とからなる部分。 ナ行TOPに戻る |
| 【ノズルのすきま
(nozzle clearance) 】
ノズルの周縁とポンプケース内壁との最小の間隔。 ナ行TOPに戻る |
| 【ノズルのすきま面積
(nozzle clearance area) 】
ノズルのすきまの面積。 ナ行TOPに戻る |
| 【ノズルののど
(nozzle throat) 】 ノズルの最小断面積の部分。 ナ行TOPに戻る |
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