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真空の歴史 |
科学・産業史 |
日本での出来事 |
| 1900 |
1905
水銀回転ポンプの発明-ゲーデ
(Wolfgang Gaede 独)
1906
ピラニー真空計の発明
熱電対真空計の発明
1909
ベーン型油回転ポンプの発明-ゲーデ
熱電導真空計-ピラニー
(M.Pirani 伊) |
1901
実用水銀灯の完成-クーパー・ヒューイット
(Peter Cooper Hewitt 米)
1905
光粒子仮説(光の粒子説の復活)-アインシュタイン
(Albert Einstein 独-米)
1906
三極管の発明-ド・フォレスト
(Lee de Forest 米)
ガス入りらせん状タングステン電球の製作-ラングミューラ
(Irving Langmuir 米) |
1904(明治37)
日露戦争 |
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1912
真空蒸着法-R.Pohl.P.Pringhein
1913
分子ポンプの発明-ゲーデ
1915
水銀拡散ポンプの発明-ゲーデ
1916
電離真空計の発明-バックレイ
(O.E.Buckley 米) |
ラザフォード・ボアの原子模型
(N.H.D.Bohr デンマーク)
1914
高真空真空管の製作に成功-ラングミューア
蒸着法による金属薄膜抵抗器 |
1914(大正3)
第一次世界大戦
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1928
拡散ポンプ用の作動油(Apiezon油)開発-ブルヒ
(C.R.Burch) |
1929
TEM(トンネル型電子顕微鏡)の発明-ラスカ
(E.Ruska) |
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1935
油回転真空ポンプのガスバラスト原理の発明-ゲーデ
分留式油拡散ポンプの発明-ヒックマン
(K.C.D.Hickman 米)
1939
ヘリウムリークディテクタ |
1931
量子力学による半導体のウイルソン模型
1932
電子顕微鏡発明される
1937
GT管の開発
1939
MT管の開発(高性能真空管 小型化)
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1935(昭和10)
真空蒸着による鏡の製作
1937(昭和12)
日中戦争
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1945
真空管式電子計算機ENIAC完成
(ペンシルバニア大学とIBMとの共同開発)
原子爆弾完成
固体素子半導体の出現
1948
点接触型トランジスタ作用の発見
(ベル研)
接合型トランジスタの特許出願-ショックレー
(W.B.Shockley 米)
pn接合(pn Junction)の概念確立-ショックレー/ピアソン
(W.B.Shockley 米/G.L.Pearson) |
1941(昭和16)
太平洋戦争勃発
血清の真空凍結乾燥
1945(昭和20)
第二次世界大戦終戦
1949(昭和24)
湯川秀樹博士 日本人初のノーベル賞受賞 |
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1950
American Vacuum Society(AVS)発足
1953
ゲッターイオンポンプ発表-ハーブ
(Herb)
1955
メカニカルブースターポンプの商品化(独)
1958
実用型分子ポンプのPfeiffer社商品化-ベッカー
(W.Becker 独)
スパッタイオンポンプ(米 バリアン社)-ホール
1953
IUVSTA 第1回 国際真空会議 ナミュール(ベルギー)
1959
クライオポンプの商品化
(B.N.Baily)
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BSC理論
固体回路の開発(米TI社)-ギルビー
(Jack S.Kilby)
1954
太陽電池発明-ピアソン/フューラ/シャピン(米 ベル研)
(Pearson/Fuller/Chapin)
Si pn接合
1957
人類初の人工衛星スプートニク1号打ち上げ(露)
エサキダイオードの発明-江崎玲於奈博士
1959
固体回路の開発-キルビー
(Jack S.Kilby 米 TI社)
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1950(昭和25)
真空技術研究会設立
国産テープレコーダ製造開始
1952(昭和27)
日本真空技術株式会社設立
テレビ放送開始
1954(昭和29)
真空機器協会設立
トランジスタ生産開始
1955(昭和30)
トランジスタラジオ発売-東京通信工業社(現ソニー社)
1958(昭和33)
日本真空協会発足
雑誌「真空」発刊 |
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1960年代
固体表面の研究が活発になる。
本格的な半導体投資が行われる。
真空機器・システムやLSI関連のシステムの商品化が相次ぐ時代
日本では、スパッタリング装置・イオン注入装置・RIE装置など半導体製造装置 の国産化が進んだ。
主要公官庁・企業の研究部門へ納品されたのをきっかけとして真空業界の商品系列は、 大きく半導体関連機器にシフトしていく。 |
MOS
トランジスタ特許
1964
MOS ICを開発
高集積化への道に-TI社
1968
世界初の液晶ディスプレイを製作−ハイルマイヤ−(米国RCA社)
1969
アポロ 人類初の月面着陸
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1960(昭和35)
カラーテレビ放送開始
1962(昭和37)
カラーテレビ商品化
1964(昭和39)
日本リライアンス株式会社設立
電子卓上計算機発売-シャープ社
東京オリンピック開催
1966(昭和41)
真空冶金株式会社設立
1967(昭和42)
金属表面化学株式会社設立
1968(昭和43)
真空理工株式会社設立
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1970年代-80年代
真空技術は、つねに産業との関連を強くとりつづけていく。 特に「産業の米」と言われた、半導体関連産業と密接に歩調をとる
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1973
第一次オイルショック
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1971(昭和46)
真空機工株式会社設立
1973(昭和48)
液晶表示電卓の商品化(シャープ)
1974(昭和49)
第6回国際真空会議開催 京都
4K DRAM製品の出荷が始まる
サンシャイン計画スタート
1975(昭和50)
三弘アルバック株式会社設立
1976(昭和51)
超LSI開発プロジェクト指導(79年まで)
1979(昭和54)
アルバック成膜株式会社設立
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1987
SPring8 8GeV 大型放射光施設開発企画着手(日本)
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1982
STM走査型トンネル顕微鏡-Binningらが開発
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1980(昭和55)
高山アルバック株式会社設立
新エネルギー総合開発機構(NEDO)設立
1981(昭和56)
アルバック・クライオ株式会社設立
1982(昭和57)
アルバック・ファイ株式会社設立
1983(昭和58)
256K DRAM製品出荷始まる
1985(昭和60)
アルバック精機株式会社設立
日本真空工業会設立
1987(昭和62)
東北真空技術株式会社設立
株式会社アルバック・コーポレートセンター設立
1989(平成元年)
1M MOS DRAM製品化
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1990年代
開花するマルチメディア・情報通信関連産業
真空産業はクリーン・セイブエネルギー関連産業へとシフトしていく。
移動体通信関連機器の需要増大
表示デバイスの飛躍的な進歩 |
WWWブラウザー ネットスケープの開発
インターネット時代 |
1992(平成4)
16M MOS DRAM商品化
1994(平成6)
アルバックテクノ株式会社設立
インターネットブーム始まる
1995(平成7)
地下鉄サリン事件
新方式によるPHS
WIN95の発売によるマルチメディアPCの売上増大 |